坩堝工藝之噴涂 坩堝噴涂是利用不同于其它噴涂技巧跟方法，坩堝噴涂是涂裝坩堝通過加熱使其液態混淆物（氮化硅）敏捷附著在坩堝名義。涂裝坩堝的方法可分為加熱噴涂與滾涂兩種方法涂覆工藝，滾涂涂裝其技巧工藝簡單，涂裝涂層不均，時光長，氮化硅利用量大，本錢高，所以公司現利用的是較進步工藝熱噴涂技巧。 就目前的石墨坩堝而言，加熱噴涂技巧是將配制好的硅液涂料用沾染的緊縮空氣進行噴涂，噴槍壓力為20psi~40psi，噴涂間隔為25~30厘米，定位下落坩堝寬度為15~20厘米，在噴涂進程中個別一次噴涂厚度把持在小于0.01mm內，否則在加熱進程中易呈現龜裂．起泡．針孔等，坩堝噴涂溫度在40℃~65℃把持內．噴涂實現后再進行熱處理，熱處理的目標是進步涂層結晶度，避免內應力引起的涂層脫落，從而進步涂層的韌性跟附著力。
隨著科技的一直發展，石墨坩堝制造行業自身才干的一直進步，很多新的技巧，好的技巧也隨之產生，盼望我國的坩堝出產業可能有新的技巧沖破吧！
